尼康官宣其首款后端工艺用光刻机：1μm 分辨率，2026 财年发售

摘要： 财联社月日讯编辑黄君芝上个月一辆特斯拉卡车在美国加利福尼亚州的一条高速公路上撞树起火导致州际公路封路近个小时美国国家运输安全*员会周五在一份初步报告中表示当时用了万加仑约为万升的水...

财联社9月14日讯（编辑 黄君芝）上个月，一辆特斯拉Semi卡车在美国加利福尼亚州的一条高速公路上撞树起火，导致I-80州际公路封路近16个小时。美国国家运输安全*员会（NTSB）周五在一份初步报告中表示，当时用了5万加仑（约为19万升）的水才扑灭了火。此外，工作人员还动用飞机在“附近区域”投放阻燃剂。这起事故于8月19日...

IT之家 10 月 24 日消息，尼康本月 22 日宣布该公司正在研发一款面向半导体先进封装工艺应用、“兼具高分辨率及高生产性能”的 1.0 微米（即 1000 纳米）分辨率数字光刻机，该设备预计在尼康 2026 财年（IT之家注：截至 2026 年 3 月 31 日）内发售。

尼康表示，随着数据中心 AI 芯片用量的不断提升，在以 Chiplet 芯粒技术为代表的先进封装领域出现了对基于玻璃面板的 PLP 封装技术日益增长的需求，分辨率高且曝光面积大的后端光刻机也愈发不可或缺。

尼康正在研发的后端数字光刻机将半导体光刻机代表性的高分辨率技术同显示产业所用 FPD 曝光设备的多透镜组技术相融合。其曝光过程无需使用掩膜，而是利用 SLM（空间光调制器）来生成所设计的电路图案，从光源发出的光经 SLM 反射后通过透镜光学组，最终在基板上成像。

尼康宣称其新设备相较于传统的有掩膜工艺可同时削减后端工艺的成本和用时。